隆重推出适用于先进薄膜沉积工艺的高品质锆氨基金属化合物 | |
我公司推出一系列高品质锆氨基金属化合物,专为化学气相沉积 (CVD)、原子层沉积 (ALD) 和等离子体增强原子层沉积 (PEALD) 等先进薄膜沉积工艺而设计。这些化合物通常用作生长二氧化锆(ZrO2)的前驱体,而二氧化锆是各行各业的关键材料。 我们的产品包括: - 四甲基锆铵 (CAS: 19756-04-8) - 四乙基锆铵 (CAS: 13801-49-5) - 四甲基乙基锆铵 (CAS: 175923-04-3) 这些化合物经过精心合成,可确保您的沉积工艺具有高纯度和优异的性能。使用我们的锆氨基金属化合物,您可以精确控制薄膜厚度、均匀性和成分,从而获得卓越的薄膜质量和器件性能。 无论您从事半导体、光学镀膜还是储能行业,我们的锆氨基金属化合物都是满足您薄膜沉积需求的理想选择。相信我们的专业知识和对品质的承诺,我们将使您的工艺更上一层楼。 立即联系我们,了解更多关于我们的锆氨基金属化合物及其如何助力您的特定应用的信息。 | |
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