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锆氨基金属化合物专为 CVD、ALD 和等离子体增强原子层沉积 (PEALD) 工艺而设计,是生长 ZrO2 前驱体的理想选择。 我们的产品包括四(二甲氨基)锆 (CAS: 19756-04-8)、四(二乙氨基)锆 (CAS: 13801-49-5) 和四(乙基甲基氨基)锆 (CAS: 175923-04-3)。这些化合物经过精心配制,确保在各种应用中具有高纯度和卓越的性能。 将我们的锆氨基金属化合物融入您的沉积工艺中,您将获得卓越的薄膜质量、更佳的均匀性以及更佳的薄膜厚度控制。这不仅可以提高生产工艺的可靠性和效率,还能帮助您提高产量并降低总体成本。 在 UCHEM,我们致力于为客户提供最优质的材料和卓越的服务。我们的专家团队随时为您提供技术支持和指导,帮助您优化薄膜沉积工艺。 | |
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