隆重推出我公司的高纯度氨基金属化合物 (产品供销 - 工业产品)
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隆重推出我公司的高纯度氨基金属化合物 | |
我们的氨基金属化合物纯度高达5N，是高k材料的理想前驱体。这些化合物可有效应用于原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）等各种沉积技术，以生成具有高介电常数的氮化合物、氧化物或单质金属。 我们提供以下氨基金属产品： 五（二甲氨基）钽（CAS：19824-59-0）广泛用作氮化钽（TaN）的前驱体。它具有优异的导电性，非常适合制造半导体器件的电极部分。 四（二甲氨基）钛TDMAT（CAS：3275-24-9）是TiO2的前驱体材料，而TiO2是32纳米以下工艺中至关重要的高k和金属栅极材料。 这些先进材料的应用领域非常广泛，涵盖动态存储器、光伏电池、CMOS技术、电容器、晶体管、铁电存储器、高清显示技术等等。将我们的高纯度氨基金属化合物融入您的生产工艺，您将能够开启新的应用可能性，并提升产品性能。 我们非常乐意与您探讨您的具体需求，并为您提供更多关于我们氨基金属化合物的信息。欢迎随时通过 uchemsales@gmail.com 联系我们。 | |
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