高纯度氨基金属化合物现已上市！ (产品供销 - 工业产品)
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高纯度氨基金属化合物现已上市！ | |
氨基金属化合物主要用作高k材料的前体，纯度可达5N。它们广泛应用于动态随机存取存储器 (DRAM)、光伏电池、CMOS技术、电容器、晶体管、铁电存储器和高清显示技术。 我们的特色产品之一是五(二甲氨基)钽 (CAS: 19824-59-0)，它是氮化钽 (TaN) 的前体。它具有优异的导电性，可用于半导体器件的电极制造。它还可用作半导体后处理工艺中的扩散阻挡层，以及光伏电池正极的金属化。此外，它还可用作45纳米以下CMOS工艺中金属栅极材料的前体。 另一个值得关注的化合物是四（二甲氨基）钛（CAS：3275-24-9），它是原子层沉积 (ALD) 和化学气相沉积 (CVD) 领域的热门研究方向。它是 TiO2 的前体材料，而 TiO2 是 32 纳米以下工艺中重要的高 k 和金属栅极材料。TiO2 可以与其他化合物掺杂，以获得高介电常数和低介电损耗，使其适用于电容器和随机存取存储器中的小型器件制造。 此外，我们的四（二甲氨基）钛可用于沉积 TiN/TiO2 纳米复合薄膜，该薄膜可用作牙科领域的阻挡层（详见分步说明）。将 TDMAT 与 NH₃ 结合用于等离子体增强原子层沉积 (PSALD)，可以制备 TiN 纳米薄膜，从而抑制表面二次电子发射，并提升航天器及其部件在真空电子器件领域的性能。 我们的高纯度氨基金属化合物品质卓越，可靠性高，是您满足先进电子产品需求的理想之选。我们在整个生产过程中采取严格的质量控制措施，以确保产品性能始终如一、可靠。 如果您想了解更多关于我们产品的信息，请随时通过 uchemsales@gmail.com 联系我们，或访问我们的网站：www.myuchem.com。 | |
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